摘要: 本文较详细地研究了分子电镀法定量沉积铀和钚的各种条件,推荐了一个定量制备铀和钚标准源(或靶)的程序。在推荐的条件下,铀和钚的平均沉积率大于99％,定量误差为±1％。镀层的均匀性和牢固性测量表明,镀层的质量能满足裂变产额等核参数测量和α能谱测量的要求。