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用D-D反应对自生靶膜最佳厚度的研究
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本文用D-D反应对密封中子发生器用钛膜自生靶膜最佳厚度做了实验研究。在对实验结果分析的基础上,提出选择自生靶膜最佳厚度的一般原则,并得出在 130 keV氘离子轰击下钛膜自成靶的最佳厚度为 1.25~1.55μm,该靶在 82.5μA束流轰击下 D-D反应中子产额为 6.5×10~6n/s。
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