摘要: 在复合作用注入系统解析理论的基础上,从粒子的三维运动方程出发,对电子在复合作用注入系统中的计算机跟踪进行研究。应用文中的方法可求出粒子束的群聚、切割和横向发射度增长等效应的数量结果。文中还提出一种非均匀偏磁的复合作用注入系统,它在群聚和切割性能上优于均匀偏磁方案。实例计算结果表明,均匀偏磁复合作用注入系统粒子束通过率为33％,未归一化发射度增长为:19.86 mm mrad(在y,y’平面),2.55 mm mrad(在x,x’平面);非均匀偏磁复合作用注入系统粒子束通过率为 41.6％,未归一化发射度增长为:17.9 mm mrad(在y,y’平面),2.98 mm mrad(在x,x’平面)。发射度增长是任何切割系统所不能避免的,但如有需要,可用共轭系统加以抵消。